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貨號(hào) | 品名 | 描述 | 規(guī)格 |
76000 | ibidi微光刻照射系統(tǒng) | ibidi Micro Illumination System: ibidi Micro Illumination System, External Power Supply, Mask Holder, Slide Holder, Dish Holder, Demo mask | 1套 |
ibidi微光刻照射系統(tǒng)(ibidi Micro Illumination System)
一站式微加工紫外光照射平臺(tái)
? 緊湊型臺(tái)式系統(tǒng)：可直接配合蓋玻片腔室（如μ-Slides和μ-Dishes）使用。
? 兼容濕實(shí)驗(yàn)室環(huán)境：無(wú)需潔凈室。
? 用戶友好且通用：適用于各類微結(jié)構(gòu)制備應(yīng)用。
應(yīng)用
ibidi微光刻照射系統(tǒng)是一款緊湊、易用的臺(tái)式平臺(tái)，將光誘導(dǎo)微加工技術(shù)帶入日常實(shí)驗(yàn)室，徹底擺脫了對(duì)潔凈室的依賴。該系統(tǒng)兼容μ-Slides和μ-Dishes等蓋玻片載具，支持包括光圖案化 (Photopatterning)、水凝膠微結(jié)構(gòu)制備和光點(diǎn)擊化學(xué)在內(nèi)的廣泛2D和3D實(shí)驗(yàn)方法。用戶可以精確控制細(xì)胞貼壁、遷移和組織形成的時(shí)間與空間位置，從而構(gòu)建出具有生理相關(guān)性的體外微生理模型。
? 光圖案化：高精度表面圖案可引導(dǎo)細(xì)胞行為。通過(guò)空間受控的表面功能化或蛋白圖案，定義細(xì)胞的貼壁與遷移行為。
? 光誘導(dǎo)創(chuàng)傷：在匯合單層細(xì)胞中光誘導(dǎo)生成無(wú)細(xì)胞區(qū)，用于傷口愈合及細(xì)胞遷移研究。
? 光點(diǎn)擊化學(xué)：實(shí)現(xiàn)化學(xué)反應(yīng)的空間與時(shí)間控制。
? 采用正性或負(fù)性光刻膠的光刻(Photolithography)與軟光刻(Soft lithography)技術(shù)。
? 對(duì)光交聯(lián)水凝膠和生物墨水（如：甲基丙烯酸明膠 (GelMA)、膠原蛋白、透明質(zhì)酸或PEG-DA、PEG-NB）進(jìn)行光聚合，以構(gòu)建特定的2D/3D微架構(gòu)。
? 利用365 nm光引發(fā)劑（如：Irgacure, LAP）對(duì)塊狀材料或表面進(jìn)行光誘導(dǎo)結(jié)構(gòu)化。
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技術(shù)特點(diǎn)
? 配備高準(zhǔn)直性的365 nm LED，提供大面積均勻的紫外光照射區(qū)域，實(shí)現(xiàn)清晰的圖案轉(zhuǎn)移。
? 光線從樣品下方進(jìn)行紫外照射，非常適合與蓋玻片底部的實(shí)驗(yàn)器皿（如μ-Slides和μ-Dishes）使用。
? 占地面積小的臺(tái)式系統(tǒng)——無(wú)需任何外部設(shè)備或基礎(chǔ)設(shè)施。
? 直觀易用的操作——無(wú)需安裝任何軟件或連接電腦界面。
? 靈活的應(yīng)用——適用于各種多功能的微結(jié)構(gòu)制備。
光罩兼容性
? 支持標(biāo)準(zhǔn)的3英寸光罩(photomasks)，適用于各種圖案化應(yīng)用。
集成安全蓋
? 配備安全蓋和安全鎖定機(jī)制，確保操作安全。
兼容濕實(shí)驗(yàn)室環(huán)境
? 專為在標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室臺(tái)面使用而設(shè)計(jì)——無(wú)需潔凈室。
? 可選下壓架 (Downholders)： 最大限度縮小光罩與樣品之間的間隙，從而獲得最佳的分辨率和圖案轉(zhuǎn)移效果。
? 可選孔板插片 (Well Inserts)： 減少開(kāi)放式μ-Slides的樣品體積并降低彎液面效應(yīng)，提高圖案化的一致性。
? 提供適用于ibidi μ-Slides和μ-Dishes的即用型光罩模板。
? ibidi微光刻照射系統(tǒng)隨附一張演示光罩(photomasks)，方便您針對(duì)具體的實(shí)驗(yàn)應(yīng)用進(jìn)行簡(jiǎn)單的概念驗(yàn)證(proof-of-concept)實(shí)驗(yàn)。
什么是ibidi微光刻照射系統(tǒng)？ 微光刻照射系統(tǒng)利用高度準(zhǔn)性的紫外光(365 nm)來(lái)引發(fā)光敏化學(xué)反應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)材料在微米尺度上的精確結(jié)構(gòu)化與圖案化。
該系統(tǒng)的技術(shù)配置是怎樣的？ 該系統(tǒng)采用倒置式配置：紫外光從下方穿過(guò)光罩（Photomask）投射到樣品（如μ-Slides或μ-Dishes）上，實(shí)現(xiàn)空間受控的聚合、交聯(lián)或表面功能化。 | 這是個(gè)動(dòng)態(tài)圖 | |
光誘導(dǎo)化學(xué)的原理是什么？ 紫外光（365 nm）被用于在各種物理、化學(xué)和生物應(yīng)用中引發(fā)化學(xué)反應(yīng)。通過(guò)使用光罩，可以在特定區(qū)域阻擋光線，從而限制化學(xué)反應(yīng)僅在需要的地方發(fā)生。對(duì)于表面結(jié)合反應(yīng)，此過(guò)程可創(chuàng)建二維（2D）圖案；而對(duì)于塊狀材料（如可光交聯(lián)的水凝膠）中的反應(yīng)，則可形成三維（3D）結(jié)構(gòu)。 |
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紫外誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)的操作流程是怎樣的？
ibidi微光刻照射系統(tǒng)通過(guò)幾個(gè)簡(jiǎn)單的步驟簡(jiǎn)化了微加工過(guò)程：
1. 首先準(zhǔn)備好實(shí)驗(yàn)器皿；
2. 插入光罩并將實(shí)驗(yàn)器皿放入系統(tǒng)中，啟動(dòng)照射過(guò)程；
根據(jù)需要對(duì)樣品進(jìn)行后續(xù)處理（如清洗、包被或其他精加工）。 您的定制微結(jié)構(gòu)表面現(xiàn)已準(zhǔn)備就緒，可以投入使用。
1. 放入光罩與光罩支架 將標(biāo)準(zhǔn)3英寸光罩放入光罩支架中，然后將其插入儀器內(nèi)。 | 2. 將樣品放置在光罩上并開(kāi)始曝光 靈活的定位方式允許您將樣品直接放置在光罩上。合上儀器蓋后，根據(jù)您的特定需求設(shè)置曝光參數(shù)，即可啟動(dòng)曝光過(guò)程。 | |
3. 可選：使用μ-Slides和μ-Dishes定位引導(dǎo) 使用μ-Dish和μ-Slide專用支架，可以引導(dǎo)樣品放置，從而在光罩上實(shí)現(xiàn)快速、準(zhǔn)確且可重復(fù)的定位。 | 4. 可選：使用下壓架(Downholders)最小化間隙 針對(duì)μ-Slides，可以使用專用的下壓架配合儀器內(nèi)置的緊固件，將樣品輕柔地壓在光罩上。這種組合方式可以減小樣品與光罩之間的空氣間隙，從而獲得最佳的曝光效果。
注：μ-Slide專用下壓架屬于可選附件，需另行購(gòu)買(mǎi)。請(qǐng)參考下表獲取產(chǎn)品貨號(hào)及更多信息。 |
5. 可選：使用孔板插片(Well Inserts)減少體積并消除彎液面效應(yīng) 針對(duì)μ-Slide的專用孔板插片可顯著減少開(kāi)放式孔（μ-Slide 2、4和8孔載玻片）中的樣品體積并消除彎液面現(xiàn)象。這有助于節(jié)約珍貴的試劑，并最大程度地減少因彎液面曲率導(dǎo)致的潛在偽影。
注：孔板插片屬于可選附件，需另行購(gòu)買(mǎi)。請(qǐng)參考下表獲取產(chǎn)品貨號(hào)及更多信息。 |
微光刻照射系統(tǒng)有哪些優(yōu)勢(shì)？
ibidi微光刻照射系統(tǒng)將微加工技術(shù)帶入了每一個(gè)實(shí)驗(yàn)室——既經(jīng)濟(jì)又易于獲取。它填補(bǔ)了3D打印與昂貴的潔凈室光刻機(jī)之間的空白，能夠?yàn)楦黝惣?xì)胞培養(yǎng)實(shí)驗(yàn)快速制備樣本。因此，ibidi微光刻照射系統(tǒng)具有以下特點(diǎn)：
? 高效性 – 樣本制備快速且經(jīng)濟(jì)，設(shè)置流程極簡(jiǎn)。
? 多功能性 – 365 nm紫外光支持廣泛的光圖案化和微加工應(yīng)用。
? 靈活性 – 緊湊的臺(tái)式系統(tǒng)，，適合在細(xì)胞培養(yǎng)室、濕實(shí)驗(yàn)室甚至超凈工作臺(tái)內(nèi)使用。
? 易用性 – 操作簡(jiǎn)單，曝光時(shí)間和強(qiáng)度均可調(diào)節(jié)——無(wú)需任何軟件或編程
? 可重復(fù)性 – 提供高精度、均勻的曝光，確保實(shí)驗(yàn)結(jié)果一致可靠。
這是個(gè)動(dòng)態(tài)圖 通道內(nèi)通道結(jié)構(gòu)：利用ibidi微光刻照射系統(tǒng)及光交聯(lián)PEG-降冰片烯（PEG-NB）水凝膠，在μ-Slide I 0.4 Luer中制備而成。通過(guò)注入藍(lán)色食用色素，可清晰觀察到特斯拉閥（Tesla valve）形狀的水凝膠通道。 | 流體障礙物：利用ibidi微光刻照射系統(tǒng)在GelMA水凝膠中制備出流體障礙物。通過(guò)對(duì)梯形障礙物進(jìn)行交聯(lián)并接種人臍靜脈內(nèi)皮細(xì)胞（HUVEC），模擬了帶有流道收縮的血管模型。（完整方案請(qǐng)參考“實(shí)驗(yàn)應(yīng)用”欄目中的文檔Application Note 74） |
微圖案化實(shí)驗(yàn)： 在帶有PLL-PEG鈍化的μ-Dish 35 mm (high ibiTreat)中使用ibidi微光刻照射系統(tǒng)創(chuàng)建。圖案為直徑 200 μm、間距1500 μm的圓形，并使用熒光標(biāo)記纖連蛋白（HiLyte 647，紅色）進(jìn)行可視化。左圖：μ-Dish整個(gè)生長(zhǎng)區(qū)域概覽。中圖：圖案化表面的細(xì)節(jié)視圖。右圖：接種在圖案上的MDA-MB-231細(xì)胞，在接種后2小時(shí)內(nèi)顯示出對(duì)特定幾何形狀的精準(zhǔn)貼壁。（完整方案請(qǐng)參考“實(shí)驗(yàn)應(yīng)用”欄目中的文檔Application Note 73）
SU-8光刻膠母版：使用ibidi微光刻照射系統(tǒng)創(chuàng)建的帶有結(jié)構(gòu)化SU-8光刻膠層的3英寸硅晶圓片掃描電子顯微鏡（SEM）圖像，作為微觀結(jié)構(gòu)的PDMS母模。黃色標(biāo)注表示這些結(jié)構(gòu)的直徑和中心間距，藍(lán)色標(biāo)注則標(biāo)示了它們的長(zhǎng)寬比。（完整方案請(qǐng)參考“實(shí)驗(yàn)應(yīng)用”欄目中的文檔Application Note 75） | 這是個(gè)動(dòng)態(tài)圖 內(nèi)皮細(xì)胞遷移：在μ-Slide VI 0.4 中，內(nèi)皮細(xì)胞（HUVECs）在10 dyn/cm2的剪切應(yīng)力下培養(yǎng)3天，隨后通過(guò)ibidi微光照射系統(tǒng)進(jìn)行紫外線照射，制造出一條450 μm寬的“光學(xué)創(chuàng)傷”區(qū)域。恢復(fù)灌流后，通過(guò)10小時(shí)的延時(shí)攝影觀察到細(xì)胞從兩側(cè)向中心遷移并閉合缺口，最終恢復(fù)為單層匯合狀態(tài)。（完整方案請(qǐng)參考“實(shí)驗(yàn)應(yīng)用”欄目中的文檔Application Note 76） |
大鼠成纖維細(xì)胞遷移：對(duì)大鼠成纖維細(xì)胞進(jìn)行“光學(xué)創(chuàng)傷”處理。通過(guò)ibidi微光照射系統(tǒng)對(duì)200 μm的特定區(qū)域進(jìn)行光照，導(dǎo)致該區(qū)域活細(xì)胞被去除。在24小時(shí)內(nèi)，遷移的細(xì)胞重新填滿了受損區(qū)域，并形成了新的匯合單層。（完整方案請(qǐng)參考“實(shí)驗(yàn)應(yīng)用”欄目中的文檔Application Note 76）
這是個(gè)動(dòng)態(tài)圖 NIH-3T3細(xì)胞球形成： 細(xì)胞接種于μ-Slide VI 0.4通道內(nèi)200 μm的RGD圖案上，在40小時(shí)內(nèi)形成球狀體。這些圖案均由ibidi微光刻照射系統(tǒng)生成。（完整方案請(qǐng)參考“實(shí)驗(yàn)應(yīng)用”欄目中的文檔Application Note 72） | 水凝膠微加工：利用ibidi微光照射系統(tǒng)，直接在μ-Slide VI 0.4中將含有可剪切多肽序列的PEG-NB水凝膠進(jìn)行交聯(lián)加工。圖中為偽彩色顯示（原凝膠顏色為黃色，此處顯示為粉色）。（更多信息請(qǐng)參閱“Self-organized homogenization of flow networks”）。圖片來(lái)自Charlott Leu, Soft Matter Physics, LMU, Munich. |
借助微光刻照射系統(tǒng)和您自制的光罩，您可以創(chuàng)建專為您的科研量身定制的精確2D和3D微環(huán)境。它使您能夠在預(yù)期的位置以預(yù)期的方式，實(shí)現(xiàn)空間受控的聚合、交聯(lián)或表面功能化。
1. 下載合適的模板。（請(qǐng)?jiān)凇?strong>實(shí)驗(yàn)應(yīng)用”欄目下方的適用于μ-Slides和μ-Dishes的光罩模板處下載模板文件。） 2. 設(shè)計(jì)階段：使用掩模版布局軟件（如LayoutEditor、KLayout或類似工具）進(jìn)行設(shè)計(jì)。如需指導(dǎo)，請(qǐng)參考“實(shí)驗(yàn)應(yīng)用”欄目中的文檔Application Note 81: Photomask Layout Creation for the ibidi Micro Illumination System (PDF)，其中提供了使用KLayout的分步操作流程。 3. 訂購(gòu)階段：按照說(shuō)明書(shū)中提供的規(guī)格，向您選擇的供應(yīng)商訂購(gòu)光掩模。
資源輔助：ibidi提供模板文件以幫助您創(chuàng)建自己的光罩設(shè)計(jì)。這些.GDS文件包含了所有必要的圖層，涵蓋了光罩布局以及μ-Slide的有效孔板或通道區(qū)域。 | 請(qǐng)?jiān)凇?/span>實(shí)驗(yàn)應(yīng)用”欄目下方的適用于μ-Slides和μ-Dishes的光罩模板處下載模板文件。 |
ibidi演示光罩的布局
隨系統(tǒng)提供的μ-Slide 8 Well high八孔高壁腔室載玻片演示光罩的幾何形狀：cir = 圓形，sqr = 正方形，lin = 線條，pit = 間距。所有數(shù)值單位均為微米(μm)。
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可選配件 | 下壓架(Downholders) | |||||||||||||||||||||||||||||||
| 下壓架 (Downholders)：下壓架通過(guò)減小光罩表面與μ-Slide之間的距離，實(shí)現(xiàn)近距離紫外曝光，從而確保最佳的實(shí)驗(yàn)結(jié)果。這些μ-Slide專用下壓架屬于可選附件，需另行購(gòu)買(mǎi)。請(qǐng)查閱上表獲取對(duì)應(yīng)的產(chǎn)品貨號(hào)。
這是個(gè)動(dòng)態(tài)圖
孔板插片(Well Inserts)：μ-Slide專用孔板插片可減少開(kāi)放式孔板（μ-Slide 2, 4, 8 Well high）的體積并減少?gòu)澮好娴男纬伞＿@些插片有助于節(jié)省珍貴的試劑，并最大程度地減少由彎液面效應(yīng)引起的潛在偽影。孔板插片屬于可選附件，需另行購(gòu)買(mǎi)。請(qǐng)查閱上表獲取對(duì)應(yīng)的產(chǎn)品貨號(hào)。
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理論上，在理想條件下，該系統(tǒng)的衍射極限標(biāo)稱分辨率為2 μm。所謂“理想條件”是指：光罩與化學(xué)反應(yīng)面直接接觸、化學(xué)反應(yīng)層極薄，且化學(xué)反應(yīng)瞬時(shí)完成且無(wú)擴(kuò)散現(xiàn)象。但在實(shí)際實(shí)驗(yàn)設(shè)置中，為了獲得更穩(wěn)定的結(jié)果，我們建議設(shè)計(jì)的特征尺寸>10 μm。
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